中微公司(688012)：营收持续高增 设备平台化布局渐丰
刻蚀设备装机量高增，市占率持续提升。2024 年公司刻蚀设备实现营收72.77 亿元，同比增长54.72%，近四年收入年均增长超50%。公司刻蚀设备可覆盖95%以上的刻蚀应用需求。分产品来看：
1） CCP 设备：2024 年全年CCP 刻蚀设备生产付运超过1200 反应台，创历史新高，较2023 年增长逾100%，累计装机量超过4000 反应台，连续十年保持大于30%的年平均复合增长率。双反应台PrimoD-RIE、PrimoAD-RIE、PrimoAD-RIEe，单反应台PrimoHD-RIE 等产品已广泛应用于国内外一线客户的生产线，具有动态可调电极间距功能的双反应台PrimoSD-RIE 进入先进逻辑生产线验证关键工艺。用于高精度高选择比刻蚀工艺的单反应台产品PrimoHD-RIEe，和用于超高深宽比刻蚀工艺的PrimoUDRIE实现规模付运，已有的刻蚀产品已经对28 纳米以上的绝大部分CCP 刻蚀应用和28纳米及以下的大部分CCP 刻蚀应用形成较为全面的覆盖。
2） ICP 设备：在涵盖逻辑、DRAM、3DNAND、功率和电源管理、以及微电机系统等芯片和器件的50 多个客户的生产线上量产，并继续验证更多ICP 刻蚀工艺。2024 年，ICP刻蚀设备在客户端的累计安装数达到1025 个反应台，近四年年均增长大于100%，适用于更高深宽比结构刻蚀的Nanova LUX-WT 在客户端投入量产，Nanova LUX-Cryo 在客户端认证中。下一代ICP 刻蚀设备Primo Nanova 2G 在实验室已经搭建完成Alpha反应腔，正展开工艺开发。
MOCVD 设备保持行业领先地位，拓宽下游应用领域。2024 年MOCVD 设备实现营收3.79亿元。公司持续保持国际氮化镓基MOCVD 设备市场领先地位。其中PRISMO UniMax 产品凭借其高产量、高波长均匀性、高良率等优点，在Mini-LED 显示外延片生产设备领域处于国际领先。Micro-LED 应用的设备样机Preciomo Udx 验证顺利，已基本满足客户生产要求。同时，公司启动了应用于碳化硅功率器件外延生产设备的开发，正与多家领先客户开展商务洽谈，目前已付运样机至国内领先客户开展生产验证。
LPCVD 设备实现首台销售，打开薄膜沉积市场。公司已开发出六款薄膜沉积产品推向市场，钨系列薄膜沉积产品：CVD 钨设备，HAR 钨设备和ALD 钨设备，可覆盖存储器件所有钨应用，已通过关键存储客户端现场验证，并获得客户重复量产订单。LPCVD 设备2024 年实现首台销售，全年设备销售约1.56 亿元，LPCVD 薄膜设备累计出货量已突破150 个反应台，2024 年得到约4.76 亿元批量订单，其他二十多种导体薄膜沉积设备也将陆续进入市场。
股权激励深度绑定优秀人才，彰显公司发展信心。为了进一步建立、健全公司长效激励机制，充分调动公司员工的积极性，公司预计进行新一期股权激励，拟向激励对象授予不超过1200万股限制性股票，其中首次授予不超过1000 万股，激励计划首次授予的限制性股票考核年度为2025-2028 四个会计年度，每个会计年度考核一次。以公司2024 年度的营业收入为基数，根据各考核年度的营业收入累计值定比基数的年度累计营业收入增长率，确定各年度的业绩考核目标对应的公司层面归属比例，以对标企业（Gartner 公布的相应年度全球半导体设备厂商销售额排名前五位的公司）算术平均增长率为考核目标，彰显公司长期发展信心。
盈利预测与投资建议：我们预计公司2025-2027 年实现营收120.7/158.0/205.4 亿元，实现归母净利润25.5/35.6/48.5 亿元，对应PE 为46.7/33.5/24.6x，维持“买入”评级。
风险提示：产品进展不及预期；下游需求不及预期；贸易摩擦加剧。