中微公司(688012)：24Q4单季度收入同比增60% 创新高 薄膜沉积设备品类不断丰富 装备平台化加速推进
持股加大研发投入力度。中微公司2024 年实现收入90.65 亿元，同比增44.73%；归母净利润16.16 亿元，同比-9.53%；扣非后归母净利润13.88 亿元，同比增16.51%。公司扣非后归母净利润的增速低于收入增速的原因主要为2024 年显著加大研发力度，以尽快补齐国产高端半导体设备短板，实现赶超，研发投入约24.52 亿元，同比增长94.31%，其中研发费用14.18 亿元，同比增长73.59%。
刻蚀设备收入高增。2024 年公司刻蚀设备收入72.77 亿元，同比增54.72%；销售量908 腔，同比增长49.83%。其中：1、CCP 刻蚀设备2024 年生产付运超过1200 反应台，创历史新高，累计装机量超过4000反应台。针对超高深宽比刻蚀自主开发的具有大功率400kHz偏压射频的Primo UD-RIE 已经在先进的存储器件生产线至关重要的超高深宽比刻蚀工艺中取得大规模应用，并且公司积极布局超低温刻蚀技术，以满足超高深宽比刻蚀技术迭代的需求；2、ICP 刻蚀设备在客户端的累积安装数达到1025 个反应台。
薄膜沉积设备快速推进。公司2024 年LPCVD 设备累计出货量已突破150 个反应台，2024 年得到4.76 亿元批量订单，全年设备销售约1.56 亿元。已开发出六款薄膜沉积产品，其中：1、钨系列薄膜沉积产品包括CVD 钨设备、HAR 钨设备、ALD 钨设备均已通过关键存储客户端现场验证；2、应用于先进逻辑器件的金属栅系列产品包括ALD 氮化钛、ALD 钛铝、ALD 氮化钽产品已完成多个先进逻辑客户设备验证。公司将在现有的金属CVD 和ALD 设备研发基础上，同步推进多款CVD 和ALD 设备开发，增加薄膜设备的覆盖率。此外，公司EPI 设备已进入客户端量产验证阶段。
风险提示。市场竞争加剧导致产品份额或毛利率的下滑、新产品研发进展或市场拓展进度低于预期、下游客户放缓资本开支等。